德國 HELLMA 晶體材料 氟化鋇BaF?

德國 HELLMA 晶體材料 氟化鋇BaF? 產(chǎn)品介紹

產(chǎn)品介紹：

在光學(xué)材料領(lǐng)域，氟化鋇（Barium Fluoride，BaF?）以其獨(dú)特的光學(xué)性能和化學(xué)穩(wěn)定性成為紫外、可見光及紅外系統(tǒng)的關(guān)鍵材料。Hellma Materials BaF? 產(chǎn)品憑借高純度、低吸收、寬光譜透射及高機(jī)械均勻性，廣泛應(yīng)用于激光系統(tǒng)、光學(xué)窗口、閃爍探測器以及科研儀器等領(lǐng)域。

參數(shù)接受：

150–200 nm：深紫外仍有良好透射 (>70%)

200–400 nm：UV 區(qū)透射率 >90%

400–700 nm：VIS 區(qū)透射率 92–94%

1–10 μm：IR 區(qū)透射平穩(wěn)，高達(dá) 90%

11 μm 以上：紅外吸收明顯增加

最大直徑可達(dá) ? 100 mm（部分定制可達(dá) ?150 mm）

厚度：1–50 mm

可加工成平板、棱鏡、透鏡坯件、柱體等

表面質(zhì)量：20-10 到 60-40

平整度：λ/10–λ/4

密度：4.89 g/cm3

熔點(diǎn)：1368 °C

熱膨脹系數(shù)：18.5 ×10?? /K

熱導(dǎo)率（25°C）：2.0 W/mK

楊氏模量：57 GPa

應(yīng)用領(lǐng)域：

1. 激光與光學(xué)窗口

激光輸出窗口、透鏡及棱鏡

高功率激光系統(tǒng)中的多波段窗口

光學(xué)干涉和成像系統(tǒng)

2. 深紫外光學(xué)系統(tǒng)

DUV 光刻、光學(xué)顯微鏡

紫外分光光度計(jì)

光學(xué)傳感與檢測設(shè)備

3. 中紅外與紅外探測

紅外光學(xué)元件、熱成像鏡頭

氣體傳感器窗口

紅外光譜儀光學(xué)部件

4. 閃爍材料應(yīng)用

γ 射線探測器

核醫(yī)學(xué)成像設(shè)備

安全掃描與輻射監(jiān)測系統(tǒng)

產(chǎn)品特點(diǎn)：

寬光譜透射：從 DUV 到 IR，跨波段使用無損耗

高純度材料：低雜質(zhì)，確保激光系統(tǒng)穩(wěn)定性

大尺寸晶體供應(yīng)：適合工業(yè)和科研級光學(xué)系統(tǒng)

內(nèi)部應(yīng)力控制嚴(yán)格：適合干涉與高精度光學(xué)應(yīng)用

多領(lǐng)域適用性：激光、光刻、紅外成像、閃爍探測均適用

德國 HELLMA 晶體材料 氟化鋇BaF? 產(chǎn)品介紹